薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计

薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计

作者:廖燕平

出版社:电子工业出版社

出版年:2016-03-01

评分:5分

ISBN:9787121283406

所属分类:网络科技

书刊介绍

薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计 内容简介

本书基于薄膜晶体管液晶显示器的生产和设计实践,首先介绍了薄膜晶体管液晶显示器的基本概念和器件原理,然后以产品开发的角度从面板设计与驱动、液晶盒颜色设计、液晶光学设计、电路设计和机构光学设计方面的基础内容进行了详细介绍,接着介绍了显示器的性能测试方法,*后再介绍了阵列、彩膜、液晶盒和模组四大工艺制程。

薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计 本书特色

本书基于薄膜晶体管液晶显示器的生产和设计实践,首先介绍了薄膜晶体管液晶显示器的基本概念和器件原理,然后以产品开发的角度从面板设计与驱动、液晶盒颜色设计、液晶光学设计、电路设计和机构光学设计方面的基础内容进行了详细介绍,接着介绍了显示器的性能测试方法,*后再介绍了阵列、彩膜、液晶盒和模组四大工艺制程。

薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计 目录

目 录第1章 液晶显示的基本概念11.1 液晶简介11.2 液晶的特性21.2.1 电学各向异性21.2.2 光学各向异性31.2.3 力学特性41.2.4 其他特性41.3 偏光片51.3.1 偏光片的基本原理51.3.2偏光片的基本构成61.3.3偏光片的参数91.3.4 偏光片的表面处理111.4 玻璃基板121.5 液晶显示的基本原理121.5.1 液晶显示器的基本结构121.5.2 液晶显示原理131.6 显示器的光电特性141.6.1 透过率141.6.2 对比度151.6.3 响应时间151.6.4 视角161.6.5 色域161.6.6 色温171.7 画质改善技术171.7.1 量子点技术171.7.2 高动态范围图像技术181.7.3 局域调光技术181.7.4 姆拉擦除技术191.7.5 运动图像补偿技术191.7.6 帧频转换技术201.8 立体显示技术原理211.8.1 双眼视差211.8.2 立体显示技术分类231.8.3 眼镜式3d显示技术241.8.4 裸眼3d显示技术281.8.5 3d显示的主要问题33第2章 氢化非晶硅薄膜晶体管材料与器件特性342.1 氢化非晶硅薄膜的特点342.1.1原子排列和电子的态密度342.1.2 氢化非晶硅的导电机理372.1.3 氢化非晶硅的亚稳定性392.2 绝缘层材料的特点402.2.1 氮化硅412.2.2 氧化硅412.2.3 绝缘层的导电机理422.3 薄膜沉积452.3.1 概述462.3.2 a-si:h薄膜的沉积462.3.3 a-si:h薄膜的影响因素472.3.4 na-si:h薄膜的沉积522.3.5 绝缘层薄膜的沉积522.3.6 薄膜的界面效应552.4 薄膜刻蚀572.4.1 导电薄膜的刻蚀572.4.2 功能薄膜的刻蚀582.5 tft器件结构与特点592.5.1 底栅结构602.5.2 顶栅结构622.5.3 器件基本特性622.6 器件电学性能的不稳定性652.7 薄膜评价方法662.7.1 傅里叶变换红外光谱662.7.2 紫外线-可见光谱672.7.3 恒定光电流方法682.7.4 拉曼光谱692.7.5 椭偏仪69第3章 液晶面板设计与驱动703.1 显示屏的构成703.1.1 显示区703.1.2 密封区763.1.3 衬垫区773.1.4 特征标记783.2 玻璃基板上薄膜的边界条件793.2.1 彩膜基板上的边界条件793.2.2 阵列基板上的边界条件803.3 液晶显示模式与原理803.3.1 液晶显示模式803.3.2 液晶显示光阀原理823.4曝光工艺技术853.4.1掩模版853.4.2曝光机类型863.4.3光刻工艺873.4.4 五次/四次光刻工艺过程883.4.5光透过率调制掩模版技术893.5 像素设计原理913.5.1 电容913.5.2 像素中电阻计算1003.5.3 tft性能要求1013.5.4 像素充电率模拟1053.6 面板的驱动1073.6.1 面板的电路驱动原理图1073.6.2 极性反转驱动1083.7 goa驱动原理1133.7.1 goa基本概念1133.7.2 goa工作原理1143.7.3 goa设计1203.7.4 goa的模拟仿真1263.7.5 goa设计的其他考虑131第4章 液晶显示颜色基础1324.1 色度基础1324.1.1 可见光谱1324.1.2 辐射度与光度1334.1.3 颜色的辨认1354.1.4 颜色三要素1364.2 颜色的表征1384.2.1 格拉斯曼混合定律1384.2.2 光谱三刺激值1394.2.3 色坐标计算1444.2.4 均匀色度系统及色差1464.3 液晶显示的颜色参数及计算1484.3.1 颜色再现原理1484.3.2 色坐标和亮度计算1484.3.3 灰阶与色深1504.3.4 色域计算1504.3.5 色温计算152第5章 液晶光学设计基础1545.1 概述1545.1.1 液晶盒的主要参数1545.1.2 常见的液晶显示模式1555.2 透过率1565.2.1 液晶光学偏振原理1565.2.2 不同显示模式的透过率1685.3 对比度和视角1765.3.1 对比度和视角的影响因素1765.3.2 不同模式下的对比度和视角1785.4 阈值电压和响应时间1835.4.1 液晶电学和力学原理1835.4.2 不同显示模式的阈值电压和响应时间1865.5 工作温度对液晶的影响1895.6 液晶参数对显示影响概述190第6章 驱动电路系统设计基础1916.1 模组驱动电路系统1916.1.1 oc的驱动电路1916.1.2 led背光源的驱动电路1936.2 电源管理集成电路1966.2.1buck电路1976.2.2 boost电路1986.2.3 buck-boost电路2006.2.4 ldo电路2016.2.5 电荷泵电路2026.2.6 vcom电路2046.2.7 多阶栅驱动电路2046.3 时序控制器2056.3.1 时序控制器概述2056.3.2 接口信号特点2076.3.3 lvds接口2106.3.4 edp接口2136.3.5 mini-lvds接口2136.3.6 point to point接口2156.3.7 v-by-one接口2156.4 数据驱动集成电路2166.4.1 数据驱动集成电路概述2166.4.2 双向移位寄存器2186.4.3 数据缓冲器2196.4.4 电平转换器2206.4.5 数模转换器2216.4.6 缓冲器和输出多路转换器2226.4.7 预充电电路2236.4.8 电荷分享电路2246.5 扫描驱动集成电路2256.5.1 扫描驱动集成电路概述2256.5.2 扫描驱动集成电路时序2266.5.3 xao电路2266.6 gamma电路与调试2276.6.1 gamma电路2286.6.2 gamma数值计算2296.6.3 gamma电压调试2296.7 acc调试2326.8odc调试2336.9 电视整机电路驱动系统概述235第7章 机构光学设计基础2407.1 荧光灯光源2417.2 发光二极管光源2437.2.1 led的基本特点2437.2.2 led的分类与光谱2457.2.3 led的i-v特性2477.2.4 led的辐射参数2487.2.5 led的光电特性2507.3 光学膜材2537.3.1 反射片2547.3.2导光板2547.3.3 扩散板2577.3.4 扩散片2577.3.5 棱镜片2587.3.6 反射型偏光增亮膜2607.4 背光模组结构2617.4.1 直下式背光结构2627.4.2 侧光式背光结构2627.5 机构部品材料特点2647.5.1 金属部品的特点2647.5.2 非金属部品的特点2657.5.3 机构设计对散热的影响2657.5.4 包装材料的特点2657.6能耗标准266第8章 液晶显示器性能测试2688.1 tft电学性能测试2688.1.1 tft特性参数测试仪2688.1.2 被测样品准备2698.1.3参数定义2698.1.4 tft转移特性曲线测试2708.1.5 tft输出特性曲线测试2738.1.6 tft的光偏压应力测试2748.1.7 tft的热偏压应力测试2758.1.8tft的电偏压应力测试2768.2 显示器光学特性测试2788.2.1 亮度及亮度均匀性测试2798.2.2 对比度测试2798.2.3 视角测试2808.2.4 色度学测试2818.3 响应时间测试2848.3.1 灰阶响应时间测试2848.3.2 动态响应时间测试2858.4 闪烁测试2858.4.1 jeita测试法2858.4.2 fma测试法2868.5 泛绿测试2868.6 串扰测试2878.7 残像测试2888.8 vt曲线测试2898.9 gamma曲线测试290第9章 阵列制造工程2929.1 阵列制造工程概述2929.2 溅射2949.3 磁控溅射2969.3.1 磁控溅射的特点2969.3.2 工艺条件对沉积薄膜的影响2979.4 等离子体增强化学气相沉积2999.4.1

薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计 作者简介

廖燕平,男,汉族,2007年4月毕业于中科院长春光机与物理所,获得博士学位。毕业后,一直从事薄膜晶体管液晶显示器的研究与开发,先后发表论文二十余篇,申请专利十余项。自2009年10月入职北京京东方以来,一直从事大尺寸高分辨率液晶显示器的技术开发和产品开发。期间开创性地完成了京东方自主知识产权的超维场显示在110英寸4K产品开发中的阵列和彩膜面板的拼接设计,实现了超大尺寸超高分辨率掩膜版的拼接设计技术;完成了业内尺寸最大分辨率最高的98英寸8K液晶显示阵列和彩膜面板拼接设计;创新性地提出镜像扫描驱动技术优化了超大尺寸面板的画质。以第一作者身份分别在IMID2013和IMID2014国际会议上发表了110英寸和98英寸(邀请报告)显示器产品相关研究开发成果,并且是IMID“Large Area Display”和“Image Quality Evaluation and Enhancement”分会委员。获得2015年度北京市科技奖一等奖(排名第五)。

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